Z myślą o uczestnikach konferencji przedstawiciele polskiego oddziału Agfa Graphics przygotowują bogaty program merytoryczny, wypełniony sesjami uwzględniającymi nowe funkcje i udoskonalenia, wprowadzone ostatnio w systemach: Apogee 9.1 – do akcydensowego druku offsetowego oraz Asanti 2.0 – sterującym pracą wielkoformatowych ploterów inkjetowych. Praktycznymi doświadczeniami z wdrożeń tych rozwiązań podzielą się klienci Agfa Graphics z różnych stron Polski. Zaplanowano także prezentacje pomysłów na rozwój przedsiębiorstw poligraficznych z zastosowaniem technologii MIS oraz druku cyfrowego. Drugi dzień konferencji wypełnią warsztaty, podczas których podzieleni na grupy uczestnicy będą mieli okazję do bezpośrednich rozmów ze specjalistami ds. oprogramowania Agfa Graphics.
Mówi Michał Śliz, dyrektor generalny polskiego oddziału Agfa Graphics: „Minione miesiące przyniosły szereg nowości w naszych sztandarowych systemach workflow, jakimi są Apogee i Asanti. Wiele z nich jest wspólnych dla obu tych rozwiązań, co świadczy o coraz większej integracji technik offsetowej i cyfrowej oraz ich jednoczesnym zastosowaniu w tzw. środowiskach hybrydowych. Mamy nadzieję, że przygotowywany przez nas program merytoryczny, uwzględniający także wystąpienia klientów, spotka się z zainteresowaniem uczestników tegorocznej konferencji. Podobnie jak warsztaty, podczas których poszczególne moduły Apogee i Asanti, ich funkcje, zastosowania i różne aspekty użytkowania systemów, będą szczegółowo omawiane przez naszych specjalistów ds. oprogramowania. Ta część konferencji to również znakomita okazja do bezpośrednich rozmów z prowadzącymi, co czego serdecznie zachęcamy. Mamy też nadzieję, że konferencja – jak zwykle – stanie się miejscem wielu nieformalnych dyskusji, choćby podczas wspólnej kolacji z atrakcjami, zaplanowanej na pierwszy dzień spotkania. Już dziś zatem zapraszamy na nasze warszawskie spotkanie”.